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Ver el documento (formato PDF)   Mahmud, Zulema Angela.  "Influencia de los aditivos utilizados en el cincado en medio ácido"  (2010-03-11)
Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires
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Resumen:
En principio y a la luz de todo lo que se conoce sobre la deposición metálica (capítulo 1), de la teoría en general sobre el cincado y sobre los aditivos (capítulo 2) se estudian en la tesis los problemas que a nuestro entender resultaron ser relevantes. Uno de los problemas es la reproducibilidad en las mediciones. De ahí, la importancia de tratar el problema del “El Estado inicial” que consiste en la elección del potencial de inicio de las experiencias, para lograr reproducibilidad en la voltametría. Ese potencial, está relacionado con el potencial a circuito abierto, ECA, ambos característicos del sistema en estudio. Se investiga la posible formación de óxidos en el potencial inicial durante el acondicionamiento del electrodo en Ei, para entender su incidencia en el proceso de electrodeposición. Se analiza el mecanismo por el cual actúan los aniones cloruro, sulfato y el aditivo tiourea, en el estado inicial como en la electrodeposición. Para una mejor comprensión de cada uno de los problemas, se emplean las técnicas transientes como la cronoamperometría, la voltametría catódica, la voltametría de redisolución, la voltametría de onda cuadrada y por último y aparte se estudian las galvanostáticas (en distintas zonas de corrientes). Ésta es una técnica que es necesario considerarla especialmente, porque se usa en la industria. Se analiza la deposición voltamétrica de mezclas 1:1 de cloruros y sulfatos. Así como también, con el objetivo de comparar las eficiencias de deposición de cinc en medio de cloruros y de sulfatos, se recurre a la disolución voltamétrica del depósito. Asimismo, se han utilizado otras técnicas de análisis superficiales, la Microscopía Electrónica de barrido, la técnica de análisis superficial denominada XPS y la Difracción de rayos X para el análisis de texturas de cincados obtenidos en presencia y ausencia de tiourea. Finalmente, teniendo en cuenta las experiencias de la tesis y de lo que se sabe de la bibliografía, se consideran los problemas que aún quedan por resolver en el área.

Abstract:
Initially, and in the light of everything what is known on metallic deposition (chapter 1), on the general theory about zinc plating and about additives in electrodeposition (chapter 2), we consider in this thesis the relevant problems on this matter. One of the problems is the reproducibility in measurements. Thus, the importance of dealing with the problem of “the initial Stage” that consists on the choice of the initial potential of the experiences in order to obtain reproducibility in voltammetry. That potential is related to the open circuit potential, ECA -both of them characteristic of the system under study. The possible oxide formation in the initial potential during the preparation of the electrode in Ei is researched in order to understand its incidence on the electroplating process. The mechanism by which the anions like chloride, sulphate and the thiourea additive act, both in the initial state and in the electroplating, is analyzed. For a better understanding of each problem, transient techniques like chronoamperometry, cathodic voltammetry, redisolution voltammetry, square wave voltammetry are studied and, finally and separately, the electrodeposition in galvanostatic condition (in different current zones). The last one is a technique that is necessary to be specially considered since it is used in the industry. The voltammetric deposition of mixtures of chlorides and sulphates 1:1 is analyzed. We also use the voltammetric dissolution of the deposit with the aim of comparing the efficiencies of zinc deposition in the chlorides and sulphates media. Besides, other techniques of superficial analysis have been used: the Electronic Microscopy EDX, the XPS technique of superficial analysis, and the x-ray diffraction for the analysis of textures of zinc deposits obtained in presence and absence of thiourea. Finally, we consider the problems that still are to solve in the area, taking into account the existing bibliography and our experience with the thesis.

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Registro:
Título : Influencia de los aditivos utilizados en el cincado en medio ácido     =    Influence of additives used in zinc acid plating
Autor : Mahmud, Zulema Angela
Director : Gordillo, Gabriel
Consejero : Gordillo, Gabriel
Jurados : Battaglini, Fernando  ; Gassa, Liliana Mabel  ; Tucceri, Ismael Ricardo
Año : 2010-03-11
Editor : Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Universidad de Buenos Aires
Filiación : Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI)
Comisión Nacional de Energía Atómica (CNEA)
Grado obtenido : Doctor de la Universidad de Buenos Aires en el área de Química Inorgánica, Analítica y Química Física
Ubicación : Preservación - http://digital.bl.fcen.uba.ar/gsdl-282/cgi-bin/library.cgi?a=d&c=tesis&d=Tesis_4634_Mahmud
Idioma : Español
Area Temática : Química / Electroquímica
Palabras claves : ELECTRODEPOSICION; CONDICION INICIAL; CINC; ADITIVOS; TIOUREA; TEXTURA; MORFOLOGIA; ELECTRODEPOSITION; INICIAL STAGES; ZINC PLATING; ADDITIVES; THIOUREA; TEXTURE; MORPHOLOGY; ADSORPTION
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