Registro:
Documento: | Informe Técnico |
Fecha: | 31 octubre 2015 |
Handle: |
http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00020 |
Extensión: | 31 pág.
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Formato: | application/pdf |
Filiación: | Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina.; Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina.; Universidade Federal de São Carlos; Brasil. |
Editor Institucional: | Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales |
Derechos de Acceso: |
Esta obra puede ser leída, grabada y utilizada con fines de estudio, investigación y docencia. Es necesario el reconocimiento de autoría mediante la cita correspondiente.
(2016-10) : http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00020 |
Resumen:
Se ha encontrado que en la literatura se le da poca importancia al Estado Inicial antes del inicio de la electrodeposición. Es decir, al estado del electrodo por el pulido y el acondicionamiento previo, de modo de iniciar la deposición siempre en iguales condiciones. En el caso de este aditivo, la l-cisteína, se han realizado cronoamperometrías en las que la j estacionaria, es siempre negativa antes del inicio de la deposición mientras que j estacionaria es siempre positiva para la tiourea. En este trabajo se utiliza la voltametría cíclica para el sistema de electrodeposición de cinc sobre acero en presencia de l-cisteína. Esta técnica permite diferenciar los procesos a diferentes potenciales. Aunque tiene limitaciones en cuanto a que la disolución en la inversión de potencial, se hace en la misma solución de electrodeposición. En la voltametría de disolución lenta es mayor el área de disolución que para el caso de la voltametría cíclica. Por lo tanto, es mayor la eficiencia de la reacción, porque queda determinado con más exactitud cuánto se deposita, en relación a lo que realmente debería haberse depositado. Es importante remarcar que la disolución voltamétrica es lenta y se hace en solución de NaOH 1 N y no se hace en la solución de deposición (ZnCl 2 +NH 4 Cl con l-cisteína).
Citación:
---------- APA ----------
(2016-10). Recuperado de http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00020
---------- CHICAGO ----------
(2016-10) : http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00020
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