Registro:
| Documento: | Informe Técnico |
| Fecha: | 31 octubre 2016 |
| Handle: |
http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00027 |
| Extensión: | 17 pág.
|
| Formato: | application/pdf |
| Filiación: | Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina.; Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina.; Universidade Federal de São Carlos; Brasil. |
| Editor Institucional: | Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales |
| Derechos de Acceso: |
Esta obra puede ser leída, grabada y utilizada con fines de estudio, investigación y docencia. Es necesario el reconocimiento de autoría mediante la cita correspondiente.
(2017-10) : http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00027 |
Resumen:
Se analizan en esta sección los procesos durante la deposición masiva. Se utilizan para éste estudio la voltametría de onda cuadrada aparte de la voltametría catódica de deposición, para determinar cómo influyen las zonas de potenciales de deposición masiva (pico c3 y densidad de corriente límite) en la calidad de los electrodepósitos. Se hace para analizar en la deposición, el efecto de variables como la velocidad de barrido, el pH y la temperatura.
Citación:
---------- APA ----------
(2017-10). Recuperado de http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00027
---------- CHICAGO ----------
(2017-10) : http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00027
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